特許
J-GLOBAL ID:200903075138442077

セラミックス焼結体の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-301031
公開番号(公開出願番号):特開2001-122668
出願日: 1999年10月22日
公開日(公表日): 2001年05月08日
要約:
【要約】【課題】 スパッタリングターゲットとして用いられるセラミックス焼結体の焼成時に発生する反りおよび密度むらを低減させることにより、効率よくかつ高品質なセラミックス焼結体を製造する方法を提供する。【解決手段】 金属の酸化物、水酸化物または炭酸塩等からなる原料粉末を混合し、成形して成形体とした後、焼成してセラミックス焼結体を製造する方法において、成形体を穴又は溝が設けてあるセラミックス平板上に置いて焼成を行なう。
請求項(抜粋):
原料粉末を成形して成形体とした後、該成形体を焼成してセラミックス焼結体を製造する方法において、前記成形体を複数の穴及び/又は複数の溝を有するセラミックス平板上に置いて焼成を行なうことを特徴とするセラミックス焼結体の製造法。
IPC (2件):
C04B 35/64 ,  C23C 14/34
FI (3件):
C23C 14/34 A ,  C04B 35/64 J ,  C04B 35/64 K
Fターム (3件):
4K029BA50 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05
引用特許:
審査官引用 (4件)
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