特許

J-GLOBAL ID：200903075159311207

薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置

発明者： 岡田 智弘 ,  森尻 誠 ,  岡井 哲也 ,  山崎 秀樹 ,  芳田 伸雄 ,  斉藤 治信 ,  斉木 教行 ,  川辺 隆
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-141165
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331313
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】 0.7μm以下のトラック幅をもつ磁気ヘッドを作製し、面記録密度9 Gbit/in2以上の磁気ディスク装置を得る。【解決手段】 磁気ディスク装置の磁気ヘッドのトラック幅を形成するためのレジストの露光法において、変形照明法、ハーフトーンマスク法及びフレックス法を用い、0.7μm以下のトラック幅を形成する。【効果】 レジスト露光時に輪帯照明法のような変形照明法、ハーフトーンマスク法及びフレックス法を用いることにより、焦点深度向上が図れ、寸法精度よく、微細寸法までレジストパターンを形成することが可能となり、0.7μm以下のトラック幅をもつ磁気ヘッドが製造でき、それを用いた面記録密度9 Gbit/in2以上の磁気ディスク装置を作製できる。

請求項（抜粋）：

面記録密度が9 Gbit/in2以上の磁気ディスク装置において、再生に巨大磁気抵抗効果を用いた再生ヘッドを有する薄膜磁気ヘッドの記録または再生トラック幅を決定する工程の寸法が0.7μm以下で、かつ露光工程に変形照明法を用いた薄膜磁気ヘッドを搭載することを特徴とする磁気ディスク装置及び磁気ディスクアレイ装置。

IPC (2件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39

FI (4件)：

G11B 5/31 K ,  G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 M ,  G11B 5/39

Fターム (9件)：

5D033BA13 ,  5D033DA02 ,  5D033DA07 ,  5D033DA22 ,  5D033DA31 ,  5D034BA30 ,  5D034CA06 ,  5D034DA05 ,  5D034DA07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 薄膜磁気ヘッドとその製造法及びそれを用いた磁気ディスク装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-239268   出願人：株式会社日立製作所
• フォトマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-167670   出願人：日本電気株式会社