特許
J-GLOBAL ID：200903075160379842
真空処理装置および真空処理方法、並びに該方法によって作成される電子写真感光体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-082569
公開番号（公開出願番号）：特開平11-345780
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】【課題】反応容器内で発生する膜はがれを効果的に防止することができ、球状突起の少ない品質に優れた堆積膜を形成することのできる真空処理装置、および真空処理方法を提供すること。【解決手段】容器と、該容器内にガスを供給する手段と電力を供給する手段とを備え、前記ガスを前記電力により分解し、放電を生起する真空処理装置または真空処理方法であって、放電に接する部分の表面が、(1)十点平均粗さ(Rz)が5μm以上200μm以下の範囲で且つ(2)局部山頂の平均間隔(S)が、5μm以上100μm以下の範囲の条件を満たすようにした真空処理装置または真空処理方法を提供すること。
請求項（抜粋）：
容器と、前記容器内で放電を発生させるための電力導入手段と、前記容器内にガスを供給するためのガス導入手段と、を有する真空処理装置において、放電空間に面する部材の表面が、(1)十点平均粗さ(Rz)が5μm以上200μm以下の範囲であり且つ、(2)局部山頂の平均間隔(S)が5μm以上100μm以下の範囲であることを特徴とする真空処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44
, C23C 16/50
, G03G 5/08 360
H01L 21/205
, C23C 16/44 J
, C23C 16/50 B
, G03G 5/08 360
