電子ビーム描画方法および描画装置およびこれを用いた半導体集積回路装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-045821
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246148
出願日： 1996年03月04日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】可変成形ビームの電流密度を低下させることなく、ビームを走査することにより一括ビームの面積を拡大して描画速度を向上させることを目的とする。【解決手段】電子源1から放出された電子ビーム2は1つ以上の集束レンズ3で収束され第1アパーチャ4で成形された後、第1成形レンズ5と第2成形レンズ7で収束され第2アパーチャ8上に結像される。この第2アパーチャ8上の像は対物レンズ9と対物偏向器10で投影偏向されて、感光剤の塗布された試料11上に照射され描画を行う。このとき第2アパーチャ8にあらかじめ設けてある複数の描画すべきパターン形状の開口を、偏向器6により選択する。偏向器6に走査信号を加え、第2アパーチャ8上のパターン形状の開口よりも面積の小さいビームで走査することにより電流密度を下げることなく実質的に一括ビームの面積を拡大する。【効果】特定の機能を持つ一まとまりの開口群である一括ビーム形状より面積の小さいビームで一括ビーム開口を走査することにより、見かけ上の一括ビームの面積を拡大し高速に描画を行うことができる。

請求項（抜粋）：

電子ビームを放射する電子源と前記電子ビームの形状を決定する複数の特定形状の開口を持つ絞りと前記複数の特定形状の開口を選択する第1の偏向器と前記電子ビームを投影する1つ以上の電磁レンズとを用いて行う電子ビーム描画方法にあって、前記特定形状の開口を持つ絞り上の特定の機能を持つ一まとまりの開口群の領域の辺々の1/2以下の辺で構成される前記電子ビームで走査を行うことにより描画を行うことを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , H01J 37/09 , H01J 37/305

FI (3件)：

H01L 21/30 541 J , H01J 37/09 A , H01J 37/305 B

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平4-088626
特開平4-124810
特開平4-302132

審査官引用 (3件)

特開平4-088626
特開平4-124810
特開平4-302132

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