特許
J-GLOBAL ID：200903075174392620
自己修復性断熱皮膜およびその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原田 卓治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303532
公開番号（公開出願番号）：特開平11-124662
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：
【要約】【課題】 加熱冷却の繰り返しによるミクロ亀裂を自己修復することで熱疲労寿命を長くすることができる断熱皮膜とその製造方法を提供すること。【解決手段】 この自己修復性断熱皮膜としては、トップコーティング層13としてZr O2 系セラミック皮膜を形成し、下地となるボンドコーティング層12をNi Cr Al Y合金とZr O2 Y2 O3 とからなる傾斜層とし、基材11側ではZr の成分濃度を低くし、これをトップコーティング層13側では次第に高めるように傾斜させる。これによって自己修復性のある断熱皮膜を得て熱疲労寿命を長くするようにしている。
請求項（抜粋）：
基材表面に設けられて下地となるボンドコーティング層と、このボンドコーティング層を介して設けられる断熱用のトップコーティング層とからなる断熱皮膜であって、前記ボンドコーティング層を前記基材側から前記トップコーティング層に向かって成分濃度を変えた傾斜層で構成したことを特徴とする自己修復性断熱皮膜。
IPC (5件)：
C23C 4/08
, C23C 4/10
, C23C 28/00
, F02C 7/00
, F23R 3/42
C23C 4/08
, C23C 4/10
, C23C 28/00 B
, F02C 7/00 C
, F23R 3/42 C
