特許
J-GLOBAL ID：200903075184490345
負イオンの発生方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-214822
公開番号（公開出願番号）：特開平7-057643
出願日： 1993年08月09日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：
【要約】【目的】 電場の設定を行なわないか、又は極く微弱な電場設定のみで、負イオンを効率的に空間中に発生できる負イオンの発生方法と装置を提供する。【構成】 気体通過性の光電子放出材2と、該光電子放出材の表面及び/又は裏面に、紫外線及び/又は放射線を照射する照射源3と、前記光電子放出材の裏面から気体8を導入する負イオン発生装置5とを有する負イオンの発生装置であり、該装置は、また、20V/cm以下の電場をかける装置12を備えていてもよい。さらに、該装置に荷電された微粒子を捕集する装置13を設けることにより、清浄化装置としてもよい。
請求項（抜粋）：
気体通過性の光電子放出材の表面及び/又は裏面に、紫外線及び/又は放射線を照射しながら、該光電子放出材の裏面より気体を導入して該光電子放出材の表面に負イオンを発生させることを特徴とする負イオンの発生方法。
IPC (6件)：
H01J 27/20
, B03C 3/38
, F24C 7/00
, G21H 5/00
, H01J 27/24
, H05H 7/08
