特許

J-GLOBAL ID：200903075185610352

空調設備

発明者： 服部 佳則 ,  野上 和文
出願人/特許権者： ダイキンプラント株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-061428
公開番号（公開出願番号）：特開2000-257909
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】 薬液による洗浄を十分行いながら、高価な高清浄恒温恒湿空気の排気量を低減し、操業コストを下げる安価で簡便な空調設備を提供する。【解決手段】 第1の空気調整装置1と、第2の空気調整装置2と、第1の空気調整装置により第1の性状の空気が供給されるクリーンルーム20と、クリーンルーム内に設けられた、クリーンルーム内の空気が流入する第1プロセス室3と、第2の性状の空気が供給される第2プロセス室4と、 第2プロセス室で発生する気体状物質と第2プロセス室に供給された第2の性状の空気とを排気する排気設備6、36とを備える。

請求項（抜粋）：

外気を調整して第1の性状を有する空気を供給する第1の空気調整装置(1)と、外気を調整して第2の性状を有する空気を供給する第2の空気調整装置 (2)と、前記第1の性状の空気が供給されるクリーンルーム (20)と、前記クリーンルーム内に設けられ、クリーンルーム内の空気が流入する第1プロセス室 (3)と、前記クリーンルーム内に設けられた前記第2の性状の空気が供給される第2プロセス室 (4)と、前記第2プロセス室で発生する気体状物質と前記第2プロセス室に供給された第2の性状の空気とを排気する排気設備 (6、36)とを備える空調設備。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• クリーンルーム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-040984   出願人：三菱電機株式会社
• 特開平1-276713
  
• 研磨装置と半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-021550   出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社