特許
J-GLOBAL ID:200903075186050458

感光体表面コーティング材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-235042
公開番号(公開出願番号):特開平10-319615
出願日: 1997年08月29日
公開日(公表日): 1998年12月04日
要約:
【要約】【課題】 電子写真感光体に求められる機能を維持し、光学的均一性に優れ、表面エネルギーが低く、表面硬度に優れた保護層を形成しうるコーティング材の製法を提供する。【解決手段】 微細シリカの存在下で、一般式R2 Si(OR3)3 (R2 はC3-12のフロロ炭化水素等で1〜80モル%がフロロ炭化水素であり、R3 はC1-8の直鎖状の飽和炭化水素基である)で表されるシラン化合物を、アルコールと水の混合溶媒中で加水分解縮合させる。
請求項(抜粋):
下記一般式(2)で表されるシラン化合物の加水分解縮合後の加熱硬化によって生ずる下記一般式(1)で表されるポリシロキサン樹脂成分100重量部に対して1重量部〜200重量部に相当する量の微細シリカの存在下で、下記一般式(2)で表されるシラン化合物を、アルコールと水とを含有する混合溶媒(但し、この溶媒に含まれる水の重量は前記シラン化合物の加水分解縮合に必要な重量以上の量である。)中で加水分解縮合させることを特徴とする感光体表面コーティング材の製造方法。一般式(1):R1 SiO3/2〔ここでR1 は独立に炭素数3〜12のフロロ炭化水素基、炭素数1〜18の酸素原子を有することのある飽和炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基から選ばれるものである(但し、全てのR1 のうち1モル%以上、80モル%以下は炭素数3〜12のフロロ炭化水素基である。)。〕一般式(2):R2 Si(OR3)3〔ここでR2 は独立に炭素数3〜12のフロロ炭化水素基、炭素数1〜18の酸素原子を有することのある飽和炭化水素基又は炭素数6〜18の芳香族炭化水素基から選ばれるものである(但し、全てのR2 のうち1モル%以上、80モル%以下は炭素数3〜12のフロロ炭化水素基である。)、R3 は、炭素数1〜8の直鎖状の飽和炭化水素基である。〕
IPC (3件):
G03G 5/147 502 ,  C08G 77/24 ,  C09D183/08
FI (3件):
G03G 5/147 502 ,  C08G 77/24 ,  C09D183/08

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