特許
J-GLOBAL ID：200903075198916345
堆積膜製造装置の基体巻き取り装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-293638
公開番号（公開出願番号）：特開平9-116183
出願日： 1995年10月16日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】本発明は、帯状基体裏面からの押し傷を減らし欠陥部の少ない積層薄膜素子を連続的に形成することのできる堆積膜製造装置の基体巻き取り装置を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は、帯状基体を長手方向に連続的に移動させながら、スリット状の分離通路に掃気ガスを導入するガス導入口を有するガスゲートにより接続された複数の成膜室を通過させ、前記各成膜室で前記帯状基体上に堆積膜を順次積層しローラーを介して前記帯状基体を巻き取るようにした堆積膜製造装置の基体巻き取り装置において、前記ローラーによる前記帯状基体の巻き取りが前記帯状基体よりも硬度の低い表面をもつローラーを介して前記帯状基体を巻き取るようにしたことを特徴とすものである。
請求項（抜粋）：
帯状基体を長手方向に連続的に移動させながら、スリット状の分離通路に掃気ガスを導入するガス導入口を有するガスゲートにより接続された複数の成膜室を通過させ、前記各成膜室で前記帯状基体上に堆積膜を順次積層しローラーを介して前記帯状基体を巻き取るようにした堆積膜製造装置の基体巻き取り装置において、前記ローラーによる前記帯状基体の巻き取りが前記帯状基体よりも硬度の低い表面をもつローラーを介して前記帯状基体を巻き取ることを特徴とする堆積膜製造装置の基体巻き取り装置。
IPC (4件)：
H01L 31/04
, C23C 16/24
, C23C 16/50
, H01L 21/205
H01L 31/04 T
, C23C 16/24
, C23C 16/50
, H01L 21/205
