特許

J-GLOBAL ID：200903075220163674

逆浸透膜処理槽を有する装置の殺菌・洗浄機構

発明者： 岡崎 龍夫
出願人/特許権者： 岡崎 龍夫
代理人 (1件)： 佐藤 直義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-127263
公開番号（公開出願番号）：特開平8-294689
出願日： 1995年04月27日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目的】 逆浸透膜処理槽で生成した処理水を利用して目的の作業を行う各種装置において、逆浸透膜処理水の流路切り換えで機器本体及び逆浸透膜が殺菌・洗浄され、且つ、有機物を殺菌した後も殺菌力が失われない殺菌機構を提供することにある。【構成】 逆浸透膜処理槽と機器本体間の処理水供給管路に、切換弁によって流路が切換えられるバイパス回路を形成する。このバイパス回路に陰イオン交換処理槽と銀電解槽を上流・下流の関係に介装して前記切換弁により機器本体へ殺菌・洗浄用の銀電解水供給路が形成されるように構成するとともに、前記バイパス回路の銀電解槽下流側から切換弁を介して前記逆浸透膜処理槽へ銀電解水供給路を形成したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

逆浸透膜処理槽を備え、この処理槽で調整した逆浸透膜処理水を利用して目的の作業を行う装置の殺菌・洗浄機構において、逆浸透膜処理槽と機器本体間の処理水供給管路に、切換弁によって流路が切換えられるバイパス回路を形成するとともに、このバイパス回路に陰イオン交換処理槽と銀電解槽を上流・下流の関係に介装して前記切換弁により機器本体へ殺菌・洗浄用の銀電解水供給路が形成されるようしたことを特徴とする、逆浸透膜処理槽を有する装置の殺菌・洗浄機構

IPC (15件)：

C02F 1/44 ,  B01D 65/02 500 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/66 510 ,  C02F 1/66 530 ,  C02F 1/66 540 ,  C02F 1/66

FI (18件)：

C02F 1/44 H ,  B01D 65/02 500 ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 P ,  C02F 1/50 531 E ,  C02F 1/50 540 Z ,  C02F 1/50 550 H ,  C02F 1/50 560 E ,  C02F 1/50 560 D ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/66 510 K ,  C02F 1/66 530 G ,  C02F 1/66 540 D ,  C02F 1/66 540 C ,  C02F 1/66 540 E ,  C02F 1/66 540 G