特許
J-GLOBAL ID:200903075222369199
高分子光学材料及びそれを用いた光導波路
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中本 宏 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-165106
公開番号(公開出願番号):特開平9-324051
出願日: 1996年06月06日
公開日(公表日): 1997年12月16日
要約:
【要約】【課題】 耐熱性・透明性・屈折率制御性・硬化性・耐応力性・低複屈折性をすべて併せ持つ材料、及びそれを用いた光導波路を提供する。【解決手段】 一般式(化1):Z-Si-(O0.5 )3 及び(化2):R2 Si-(O0.5 )2 (式中Zはフェニル基又は重水素化フェニル基、Rはメチル基又はエチル基)で表される繰り返し単位からなる共重合体である高分子光学材料。コアが該コアよりも屈折率の低いクラッドで囲まれた光導波路において、少なくとも前記コアに前記高分子光学材料を用いた光導波路。【効果】 クラッキングによる損傷が抑えられ、光導波路の製造を高効率化することができる。
請求項(抜粋):
下記一般式(化1)及び(化2):【化1】【化2】(前記式中、Zはフェニル基あるいは重水素化フェニル基、Rはメチル基あるいはエチル基を示す)で表される繰り返し単位からなる共重合体であることを特徴とする高分子光学材料。
IPC (3件):
C08G 77/04 NUA
, G02B 1/04
, G02B 6/12
FI (3件):
C08G 77/04 NUA
, G02B 1/04
, G02B 6/12 N
引用特許:
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