特許

J-GLOBAL ID：200903075224661369

溶射方法

発明者： 片岡 隆之 ,  小柴 博 ,  井関 利幸
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (2件)： 野口 武男 ,  塩澤 克利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-206602
公開番号（公開出願番号）：特開2007-023332
出願日： 2005年07月15日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

【課題】適用場面等に応じて所望の性質を有する溶射皮膜を容易に且つ安定して形成することが可能な溶射方法を提供する。 【解決手段】本発明により、気体を供給しながら溶射材を加熱溶融し、同溶融した溶射材を被溶射物に吹き付けて、前記被溶射物表面に溶射皮膜を形成する溶射方法であって、前記供給する気体の酸素濃度を調節すること、前記溶射皮膜として、前記酸素濃度を高めて酸化物の形成を促進した酸化層と、前記酸素濃度を下げて酸化物の形成を抑制した還元層とを、それぞれ所定の厚さでしかも任意の順番で層状に形成することを特徴とする溶射方法が提供される。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

気体を供給しながら溶射材を加熱溶融し、同溶融した溶射材を被溶射物に吹き付けて、前記被溶射物表面に溶射皮膜を形成する溶射方法であって、 前記供給する気体の酸素濃度を調節すること、及び 前記溶射皮膜として、前記酸素濃度を高めて酸化物の形成を促進した酸化層と、前記酸素濃度を下げて酸化物の形成を抑制した還元層とを、それぞれ所定の厚さでしかも任意の順番で層状に形成すること、 を特徴とする溶射方法。

IPC (2件)：

C23C 4/12 ,  B05D 1/10

FI (2件)：

C23C4/12 ,  B05D1/10

Fターム (18件)：

4D075BB57Y ,  4D075BB81Y ,  4D075BB83Y ,  4D075DC16 ,  4D075EC10 ,  4K031AA02 ,  4K031AB03 ,  4K031AB04 ,  4K031AB07 ,  4K031AB08 ,  4K031CA02 ,  4K031CB35 ,  4K031CB43 ,  4K031CB48 ,  4K031DA01 ,  4K031DA03 ,  4K031EA01 ,  4K031EA10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2965192号
  
• 特表平1-500763号公報