特許

J-GLOBAL ID：200903075232357539

低損失光導波路及びその製造方法

発明者： 井本 克之
出願人/特許権者： 日立電線株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171122
公開番号（公開出願番号）：特開2001-004852
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 小型で散乱損失や放射損失の小さい低損失光導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板1上の低屈折率のクラッド層4、6a、6b、7内に略矩形断面形状の高屈折率のコア層5a、5bが埋め込まれた光導波路において、コア層5a、5bが幅方向に少なくとも2段型の屈折率分布を有するので、コア層5a、5b中を伝搬する光の大部分が屈折率の高い部分に閉じ込められて伝搬する。コア層5a、5b及びクラッド層6a、6bがフォトブリーチング材料からなるため、界面が均一である。その結果、小型で散乱損失や放射損失の小さい光導波路が得られる。

請求項（抜粋）：

基板上の低屈折率のクラッド層内に略矩形断面形状の高屈折率のコア層が埋め込まれた光導波路において、該コア層が幅方向に少なくとも2段型の屈折率分布を有することを特徴とする低損失光導波路。

IPC (3件)：

G02B 6/122 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13

FI (3件)：

G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M

Fターム (5件)：

2H047KA04 ,  2H047KA12 ,  2H047PA17 ,  2H047TA01 ,  2H047TA36

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 屈折率分布型光導波路の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-055547   出願人：富士通株式会社
• ポリマ導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-034601   出願人：日立電線株式会社
• 光第2高周波発生素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-156414   出願人：沖電気工業株式会社
• 特開平3-158802