特許

J-GLOBAL ID：200903075236962402

機械的に処理された基材をポストエッチングする方法

発明者： スピーリングス ヘイスベルタス アドリアヌス コルネラス マリア ,  ラーセン ポール キールピー ,  ファン デル ピュッテン イアン バプティスト ペトルス ヘンリクス ,  ブシオ ヨハネス マリア マルクス ,  イン フェルト フレデリク ヘンドリク ,  ポストマ ランベルタス
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-527487
公開番号（公開出願番号）：特表2000-506829
出願日： 1997年12月04日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】例えばプラズマアドレスド液晶ディスプレイのガラスダクトプレート内の孔、及び/又は空所のパターンを設ける方法であり、まず(例えば粉末ブラストによって)機械的処理を行い、次に湿式化学エッチング処理を行い、ガラスダクトの壁の顕微鏡的粗さを減少させ、光学的攪乱を減少させ、ガラスを再び一層透明にする。

請求項（抜粋）：

機械的処理を行った後、湿式化学エッチングプロセスを行って、孔、及び空 所の壁の顕微鏡的粗さを減少させることを特徴とし、機械的処理を使用して基 材の表面に孔、及び/又は空所のパターンを設ける方法。

IPC (4件)：

C03C 15/00 ,  C23F 1/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333

FI (4件)：

C03C 15/00 D ,  C23F 1/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333