特許
J-GLOBAL ID：200903075237130656
希土類鉄系永久磁石の皮膜形成法及び希土類鉄系永久磁石
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
開口 宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-133410
公開番号（公開出願番号）：特開平5-094914
出願日： 1991年05月09日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：
【要約】【目的】 希土類鉄系永久磁石の表面を付着強度及び耐久性に優れた耐食性皮膜、耐薬品性皮膜で被覆する希土類鉄系永久磁石の皮膜形成法及び希土類鉄系永久磁石を提供する。【構成】 Cuメッキ等による下地皮膜の上に電解メッキによりNi・P合金皮膜を形成する。このように、Ni-P合金皮膜を形成するために電解Ni-Pメッキを行うことにより、メッキ液のpHを低くしても素材上に粒子を析出させることができ、メッキ皮膜を形成させることができる。またpHが低いことから得られたメッキ層はPを充分に含んでおり、そのためメッキ層の結晶構造は図1のX線回折結果に示されるように非晶質と微細結晶質との混相となり、その結果高い耐食性が与えられる。
請求項（抜粋）：
希土類鉄系永久磁石表面に下地皮膜を形成し、次いでその下地皮膜の上にニッケル(Ni)・リン(P)合金皮膜を形成する希土類鉄系永久磁石の皮膜形成法において、前記Ni・P合金皮膜を電解メッキにより形成することを特徴とする希土類鉄系永久磁石の皮膜形成法。
IPC (5件)：
H01F 7/02
, C25D 3/56
, H01F 1/053
, H01F 1/08
, H01F 41/02
