特許

J-GLOBAL ID：200903075238718460

露光方法及び装置

発明者： 青木 貴史 ,  大和 壮一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-236211
公開番号（公開出願番号）：特開2001-060548
出願日： 1999年08月23日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】 露光ビームの光路上から吸収の大きい物質を効率的に除去して、露光ビームの光量の低下を抑制する。【解決手段】 真空紫外域の露光光ILのもとでレチクル13のパターンを投影光学系18を介してウエハ19上に転写する。投影光学系18の内部を互いに隔離された複数のレンズ室76A〜76F(レンズ室76Gはレンズ室76Dと一体化されている)に分けて、一つのレンズ室で発生した吸光物質が他のレンズ室内に混入しないようにする。レンズ室76A〜76E内に吸光物質としての酸素の濃度を検出するための酸素濃度センサS3Aを配置し、この計測値に基づいて、レンズ室76A〜76F内の気体を排気管71Aを介して吸引し、レンズ室76A〜76F内に給気管70Aを介して露光光ILを透過するパージガスを充填する。

請求項（抜粋）：

露光ビームで第1物体を照明し、該第1物体のパターンを経た露光ビームで第2物体を露光する露光方法において、前記露光ビームの光路上に設けられた複数の気密室に対して互いに独立に内部の不純物を含む気体の排気と、前記露光ビームが透過する気体の給気とを制御することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 F ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (11件)：

5F046AA22 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03 ,  5F046DB14