特許

J-GLOBAL ID：200903075253779484

薄膜形成装置

発明者： 今野 茂生
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-094125
公開番号（公開出願番号）：特開平11-273894
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】 被蒸発材料に応じてイオン化量を適正化する。【解決手段】 予め、被蒸発材料のイオン化率に応じた周波数とデュティ比をプログラミングしておき、制御装置26にセットしておく。制御装置26の指令により、パルス発振器25からグリッド24に、デューティ比50%、周波数200HZのパルス電圧が印加される。この様なパルス電圧の印加により、シールド電極22を通過した電子ビームは、デューティ比50%、周波数200HZに沿った断続状(パルス状)に真空容器1内に放射される。即ち、プラズマ発生装置7から真空容器1内に放射される電子は制限され、被蒸発材料のイオン化率に応じて、被蒸発材料のイオン化が制限される。

請求項（抜粋）：

放電室と、該放電室内に配置されたカソードと、該放電室の端部に配置されたアノードと、前記カソードに対して少なくとも前記アノードを囲うように前記放電室内に取り付けられた筒状のシールド電極と、前記カソードと前記アノードとの間に放電電圧を印加するための放電電源と、前記放電室内に放電用ガスを供給するための手段を有し、前記放電室内で形成されたプラズマ中の電子を前記アノードの開口部内側にあるシールド電極の一部を通して放電室と繋がった真空容器内に照射させるように構成したプラズマ発生装置を備え、前記真空容器内で気化状態の蒸着材料に前記プラズマ発生装置からの電子を照射して発生したプラズマ中のイオンを基板に付着させるようにした薄膜形成装置において、前記アノードの電子放出側前方に前記プラズマ発生装置からの電子の取り出しを制御するグリッド電極を設け、該グリッド電極にパルス電圧を印加することにより前記プラズマ発生装置からの電子の取り出しを断続的に行うように成した薄膜形成装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 14/32 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205

FI (6件)：

H05H 1/46 A ,  C23C 14/32 B ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/205