特許
J-GLOBAL ID：200903075257044845
マスク作製用部材、マスク及びそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-314062
公開番号（公開出願番号）：特開平11-150049
出願日： 1997年11月14日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 メンブレンの厚さムラを解消し、かつ大型化を防止したマスク作製用部材、マスク及びそれらの製造方法を提供すること。【解決手段】 感応基板に転写すべきパターンをメンブレン上にそれぞれ備えた多数の小領域Sが前記パターンが存在しない境界領域Kにより区分され、前記境界領域Kに対応する部分に支柱Hが設けられたマスクにおいて、前記メンブレン7は、結晶方位が(111)、(221)、または(331)であるシリコン薄膜1’により形成され、かつ前記支柱Hは、結晶方位が(100)または(110)であるシリコン基板により形成されてなることを特徴とするマスク。
請求項（抜粋）：
マスクパターンが形成されるメンブレンが支持部材により支持されてなるマスク作製用部材において、前記メンブレンは、結晶方位が(111)、(221)、または(331)であるシリコン薄膜により形成され、かつ前記支持部材は、結晶方位が(100)または(110)であるシリコン基板により形成されてなることを特徴とするマスク作製用部材。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
, G03F 1/16 B
, H01L 21/30 502 P
