特許
J-GLOBAL ID：200903075273061032
多軸格子パターンの作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-319611
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179107
出願日： 1994年12月22日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：
【要約】【目的】 二軸以上の方向に繰り返して正弦波状等の格子パターンをもつ光学部品を効率的に製造するための方法を提供する。【構成】 二軸以上の方向に繰り返す多軸格子パターンを作製する方法であって、(イ)基板上に形成された感光性樹脂組成物膜を一軸の格子パターンをもつフォトマスクを用いて露光した後に現像する工程、(ロ)工程(イ)により得られた格子パターン上に、該感光性樹脂組成物またはその溶媒により溶解または変質されない材料からなる中間層を設ける工程、(ハ)該中間層上に第2の感光性樹脂組成物膜を積層する工程、(ニ)中間層上に形成された第2の感光性樹脂組成物膜を一軸の格子パターンをもつフォトマスクを用いて露光した後に現像する工程からなる。
請求項（抜粋）：
二軸以上の方向に繰り返す多軸格子パターンを作製する方法であって、基板上に形成された第1の感光性樹脂組成物膜を一軸の格子パターンをもつフォトマスクを用いて露光した後に現像する工程、該工程により得られた格子パターン上に、該感光性樹脂組成物またはその溶媒により溶解または変質されない材料からなる中間層を設ける工程、該中間層上に第2の感光性樹脂組成物膜を積層する工程、中間層上に形成された第2の感光性樹脂組成物膜を一軸の格子パターンをもつフォトマスクを用いて露光した後に現像する工程からなることを特徴とする多軸格子パターンの作製方法。
IPC (2件)：
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