特許
J-GLOBAL ID：200903075292962466
高耐食性R-Fe-B系ボンド磁石の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-199131
公開番号（公開出願番号）：特開平9-027433
出願日： 1995年07月11日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 長時間の塩水噴霧試験でも発錆しない極めて高い耐食性を有し、磁石表面に高密着強度で耐食性被膜を設けるのに最適な工業的工程からなる高耐食性R-Fe-B系ボンド磁石の製造方法の提供。【解決手段】 ポーラスなR-Fe-B系ボンド磁石にガラス等の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸させ、さらにバレル研磨処理、サンドブラスト処理などの表面研磨処理を施すことによって、含浸効果を保持したまま表面を改質でき、さらに、含浸処理、表面研磨処理を完了した磁石にアルカリ性水による洗浄、あるいはアルカリ性領域のりん酸塩水溶液によりバレル研摩することにより、磁石表面へのめっき層の密着強度が著しく向上し、アルカリ性のNiPまたはNiSnストライクめっき層を下地層として形成することにより、電気Niめっきなどのめっき浴を限定しないで効率的に高耐食性のめっき処理を可能とする。
請求項（抜粋）：
R-Fe-B系ボンド磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸させた後、表面研摩処理を施して磁石表面を改質し、その後、磁石素材表面に直接、アルカリ性浴によるNiPまたはNiSnストライクめっき層を形成し、さらにめっき層を形成する高耐食性R-Fe-B系ボンド磁石の製造方法。
IPC (8件)：
H01F 41/02
, B22F 3/00
, C23C 28/00
, C23G 1/14
, C25D 3/56
, C25D 5/10
, H01F 1/053
, H01F 1/08
H01F 41/02 G
, B22F 3/00 F
, C23C 28/00 A
, C23G 1/14
, C25D 3/56 A
, C25D 5/10
, H01F 1/04 H
, H01F 1/08 A
