特許

J-GLOBAL ID：200903075300939479

偏光解析装置

発明者： 川上 彰二郎 ,  佐藤 尚 ,  川嶋 貴之 ,  石川 理
出願人/特許権者： 有限会社オートクローニング・テクノロジー
代理人 (4件)： 小林 浩 ,  片山 英二 ,  小林 純子 ,  廣瀬 隆行
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2003008888
公開番号（公開出願番号）：WO2004-008196
出願日： 2003年07月14日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

光軸方向あるいは波長特性の異なる微小領域からなる薄型の偏光子アレイおよび波長板アレイを高消光比かつ挿入損失で実現し、それを用いた偏光解析装置を提供する。基板上に微細な周期的溝列を、領域毎に方向を変えて形成する。次にSiあるいはTa2O5などの高屈折率材とSiO2のような低屈折率材の交互多層膜をバイアススパッタ法で積層する。各層が周期的な凹凸形状を保存するように条件を選ぶことで、アレイ状のフォトニック結晶偏光子を形成する。これを光受光素子アレイに搭載することにより、小型で可動部分のない、部品点数の少ない高精度測定が可能な偏光解析装置が構成できる。

請求項（抜粋）：

直交座標系x、y、zにおいて、xy面に平行な1つの基板の上に2種以上の透明材料をz方向に交互に積層した多層構造体であって、xy面内において少なくとも3つの領域に分かれており、各層は領域毎に定まるxy面内の一方向に繰り返される1次元周期的な凹凸形状を有し、xy面に垂直もしくは斜め方向から入射される光に対して、各領域の凹凸形状に平行または垂直方向の偏波成分だけを透過させることを特徴とする偏光子アレイ。

IPC (3件)：

G02B5/30 ,  G01J4/04 ,  G01N21/21

FI (3件)：

G02B5/30 ,  G01J4/04 Z ,  G01N21/21 Z