特許
J-GLOBAL ID：200903075301690636
ビーム入射方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-337196
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188097
出願日： 1992年12月17日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【目的】 円形加速器へのビーム入射において、大電流ビームを蓄積する。【構成】 ビーム入射時に、共鳴励起用磁石9を励磁してベ-タトロン共鳴を励起し、ベ-タトロン位相平面上にセパラトリックスを形成する。そして、セパラトリックスの外側の開放軌道を用いてビームを入射し、高周波印加装置24で電磁ノイズをビームに印加し、荷電粒子をセパラトリックス内側の安定領域に移動拡散させる。これにより、安定領域に荷電粒子を蓄積させることができ、しかも、荷電粒子の蓄積比率を数倍に高めることができる。この方法によれば、ビーム入射時の磁石系の高精度調整が不要となり、システム全体の製作コストを低減できる。
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを入射するためのビーム軌道偏向装置と荷電粒子ビームを周回させる磁石とを備えたビーム入射装置において、ビーム入射時に、ベ-タトロン共鳴を励起するための多極磁石による磁場を用いてベ-タトロン振動の位相空間上にセパラトリックスを形成し、セパラトリックスの大きさを固定したまま前記セパラトリックスの外側から入射されたビームを内側の安定領域に移動させることを特徴とするビーム入射方法。
IPC (2件)：
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