特許
J-GLOBAL ID：200903075302806310
プラズマCVD装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-151245
公開番号（公開出願番号）：特開平6-338458
出願日： 1993年05月28日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：
【要約】【目的】プラズマCVD装置に於いて、カソードの温度分布の均一化、反応ガスの導入の均一化を同時に達成する。【構成】カソード9とアノード6を相対向させ設け、前記カソードに穿設した反応ガス供給孔11より反応ガスを導入し、両電極を加熱可能と共に両電極に高周波電力を印加してプラズマを発生させる様にしたプラズマCVD装置に於いて、前記カソードをカソード保持体8に設け、該カソード保持体を介してカソードを加熱可能とし、又該カソードとカソード保持体との間にガス分散板28を嵌装し、前記反応ガスは該ガス分散板を流通してプラズマ発生空間に導入され、該ガス分散板を通過する過程で、圧力降下が多段に進行し、断熱膨脹が抑制されると共に均圧化が促進され、更に該ガス分散板により加熱され、加熱された反応ガスが均一にプラズマ発生空間に導入され、又カソードはガス分散板を介して効果的にカソード保持体から給熱され温度分布の均一化が促進される。
請求項（抜粋）：
カソードとアノードを相対向させ設け、前記カソードに穿設した反応ガス供給孔より反応ガスを導入し、両電極を加熱可能と共に両電極に高周波電力を印加してプラズマを発生させる様にしたプラズマCVD装置に於いて、前記カソードをカソード保持体に設け、該カソード保持体を介してカソードを加熱可能とし、又該カソードとカソード保持体との間にガス分散板を嵌装し、前記反応ガスを該ガス分散板を流通させプラズマ発生空間に導入する様にしたことを特徴とするプラズマCVD装置。
引用特許：
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