特許
J-GLOBAL ID：200903075307811613
走査型投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-174161
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029801
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】 スリットスキャン露光方式の投影露光装置において、レチクル及びウエハの加速から同期走査までの時間を短縮する。【構成】 レチクル支持台9上に、レチクルY軸駆動ステージ10、レチクル微小駆動ステージ11及びレチクル12を載置し、レチクル12のパターンを投影光学系8を介してウエハ5上に投影露光する。ステージ10を介してレチクル12を-Y方向に走査するのと並行してウエハY軸駆動ステージ2を介してウエハ5をY方向に走査する。ステージ11及び2の位置の差分のフィードバック、及びステージ10及び2の速度差のフィードフォワードにより、レチクル微小駆動ステージ11の駆動を行う。
請求項（抜粋）：
マスク上の照明領域を照明する照明光学系と、前記照明領域内のパターンを基板上に投影する投影光学系と、前記照明領域に対して所定の方向に前記マスクを走査するマスクステージと、前記照明領域と共役な露光領域に対して所定の方向に前記基板を走査する基板ステージとを有し、前記照明領域に対して前記マスクを走査するのと同期して前記露光領域に対して前記基板を走査することにより、前記マスク上のパターンを逐次前記基板上に投影する投影露光装置において、前記マスクステージ及び前記基板ステージの内の一方のステージに、該ステージに対して走査方向に所定範囲で前記マスク又は前記基板を移動させるために設けられた微動ステージと、前記マスクステージ又は前記基板ステージの内の前記微動ステージが設けられていないステージの走査方向の位置を検出する粗動ステージ用位置計測手段と、前記微動ステージの走査方向の位置を検出する微動ステージ用位置計測手段と、前記マスクステージ及び前記基板ステージにそれぞれ前記投影光学系の投影倍率で定まる比率の走査速度を指令する速度制御手段と、前記粗動ステージ用位置計測手段で計測された位置と前記微動ステージ用位置計測手段で計測された位置との差分に応じて前記微動ステージの位置を制御する位置制御手段と、を有することを特徴とする走査型投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 521
, H01L 21/30 525 E
