特許

J-GLOBAL ID：200903075313562625

水素ガス製造用触媒及び水素ガスの製造方法

発明者： 大山 眞一 ,  阪井 敦 ,  大久保 都世
出願人/特許権者： 関西電力株式会社
代理人 (9件)： 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  中川 博司 ,  舘 泰光 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-216186
公開番号（公開出願番号）：特開2004-057858
出願日： 2002年07月25日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：

【課題】効率よく水素を製造するための触媒を得ること。【解決手段】水素含有有機化合物を脱水素反応させることによって水素ガスを生成させる方法に用いる触媒であって、当該触媒が、平均細孔径50Å以上の細孔を有する多孔質担体に金属粒子が担持されたものであることを特徴とする水素ガス製造用触媒。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

水素含有有機化合物を脱水素反応させることによって水素ガスを生成させる方法に用いる触媒であって、 当該触媒が、平均細孔径50Å以上の細孔を有する多孔質担体に金属粒子が担持されたものであることを特徴とする水素ガス製造用触媒。

IPC (3件)：

B01J35/10 ,  B01J23/42 ,  C01B3/26

FI (3件)：

B01J35/10 301Z ,  B01J23/42 M ,  C01B3/26

Fターム (27件)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA12 ,  4G069BA01B ,  4G069BA02A ,  4G069BA04A ,  4G069BA05A ,  4G069BA06A ,  4G069BA07A ,  4G069BA08A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75B ,  4G069CC07 ,  4G069EA02Y ,  4G069EC03Y ,  4G069EC04X ,  4G069EC05Y ,  4G069EC14Y ,  4G069EC15Y ,  4G069FB14 ,  4G140DA03 ,  4G140DC01 ,  4G140DC03 ,  4G140DC07