特許
J-GLOBAL ID:200903075320215388

半導体レ-ザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-071731
公開番号(公開出願番号):特開平5-175605
出願日: 1992年03月27日
公開日(公表日): 1993年07月13日
要約:
【要約】【目的】本発明は、しきい値電流密度,最大動作温度等のレ-ザ特性に優れた実用的な半導体レ-ザ装置を提供することを目的とする。【構成】GaAs基板1上に形成されたIny (Ga1-X AlX )1-y Pからなる活性層がInZ (Ga1-X AlX )1-Z Pからなるn型,p型クラッド層2,5で挾持されたDH構造を有する半導体レ-ザ装置において、p型クラッド層5の一部を多重量子障壁構造にし、且つ量子障壁数を3〜10個としたことを特徴とする半導体レ-ザ装置。
請求項(抜粋):
基板上に形成された第1の半導体の活性層と、この活性層を挾持する互いに導電型の異なる第2の半導体のクラッド層及び第3の半導体のクラッド層とを具備してなり、前記クラッド層の少なくとも一方が量子障壁数が3〜10個の多重量子障壁構造を有するInZ (Ga1-X AlX )1-Z Pからなることを特徴とする半導体レ-ザ装置。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平4-273491
  • 特開昭63-046788

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