特許
J-GLOBAL ID：200903075328050698
フオトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩佐 義幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-152084
公開番号（公開出願番号）：特開平5-002259
出願日： 1991年06月25日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】 孤立パターンをパターンの一部として有するフォトマスクを投影露光する場合、転写パターンの解像度を向上させ、なおかつ作成が簡便なフォトマスクを提供する。【構成】 位相部材2を半透明にして僅かに光が透過するようにする。透過光の強度はフォトレジストの感度以下になるように位相部材の光の透過率を定める。
請求項（抜粋）：
透明基板上に半透明な位相部材を設け、前記位相部材を透過した光の強度がこの透過した光により露光されるフォトレジストの感度以下になるように前記位相部材の光の透過率を定めたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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