特許
J-GLOBAL ID：200903075351392296
露光装置、リソグラフィシステム、及び半導体デバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175184
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031050
出願日： 1992年06月22日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【目的】 リソグラフィ工程で使われる複数台の露光装置によるマッチングを簡単に管理する。【構成】 露光装置によってウェハ上にある層を形成するとき、露光に使われるレチクル識別(ID)パターンと露光装置識別パターン(ステッパーID)とを、ウェハ上に焼き付けておき、後工程で容易に認識できるようにする。
請求項（抜粋）：
複数台の露光装置を用いて感光基板上に複数層の回路パターンを重ね合わせて露光するリソグラフィ方法において、前記複数層の夫々の回路パターンに対応した各マスクパターンをそれぞれ複数枚のマスク基板上に作成するとき、前記マスクパターンの製造誤差に関する情報パターンを、前記感光基板へ転写可能な形体で作成する工程と;前記マスク基板のうちの1枚を前記露光装置のうちの1台に装着して前記感光基板を露光する際、当該露光装置の固有のパラメータに関する情報パターンを、当該マスク基板上の情報パターンとともに前記感光基板の一部へ露光する工程と;前記感光基板に形成された前記製造誤差に関する情報パターンと前記装置固有パラメータに関する情報パターンとを読み取ることによって、次の層の重ね合わせ露光に使われる露光装置の固有パラメータを調整する工程とを含むことを特徴とするリソグラフィ方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 502 G
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 Z
