プラズマ制御方法及びその装置、並びにプラズマ測定方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-257456
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083893
出願日： 1996年09月05日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】本発明は、ウエハ表面に均一な皮膜を成膜し得るような常に安定した状態のプラズマを発生させるようにする。【解決手段】本発明は、所定の反応ガスが供給された容器内の所定間隔離れた位置に互いに対向するように固定配置された負極及び正極間に電位差を与えることにより発生させたプラズマ中に存在する原子の発光による光の強度比率に基づいてプラズマの電子温度を算出し、当該電子温度に基づいて負極及び正極間に電位差を与えるための電圧値を制御することにより、常に安定した状態のプラズマを発生させことができ、かくしてウエハ表面に均一な皮膜を成膜することができる。

請求項（抜粋）：

所定の反応ガスが供給された容器内の所定間隔離れた位置に互いに対向するように固定配置された負極及び正極間に電位差を与えることにより発生させたプラズマの電子温度を制御するプラズマ制御方法において、上記プラズマ中に存在する原子の発光による光の強度比率に基づいて上記プラズマの電子温度を算出する第1のステツプと、上記電子温度に基づいて上記負極及び正極間に電位差を与えるための電圧値を制御する第2のステツプとを具えることを特徴とするプラズマ制御方法。

IPC (5件)：

H05H 1/00 , C23C 14/54 , H01L 21/203 , H01L 21/31 , H05H 1/46

FI (5件)：

H05H 1/00 A , C23C 14/54 B , H01L 21/203 S , H01L 21/31 D , H05H 1/46 A

前のページに戻る