特許

J-GLOBAL ID：200903075382433225

スペーサーの形成方法及び液晶素子

発明者： 田中 光利 ,  増田 敏幸
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-303916
公開番号（公開出願番号）：特開2001-125113
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】 均一性、強度などのスペーサーとしての機能に優れ、且つ、ラビング等でダメージを受け難いスペーサーの形成方法及びスペーサーの欠陥に起因する表示欠陥がない液晶素子を提供する。【解決手段】 厚さ0.3〜10μmの感光性樹脂層を脱酸素雰囲気下で、プロキシミティー20〜500μmでパターン露光する工程を含むこと、(2)厚さ0.3〜10μmであり、露光波長における光学濃度が0.3〜0.8の感光性樹脂層をパターン露光する工程を含むこと、(3)ポジ型感光性樹脂層を、プロキシミティー20μm〜500μmでパターン露光する工程を含むこと、あるいは、(4)感光性樹脂層をパターン露光し、引き続き現像する工程と、その後、10mJ/cm2〜2000mJ/cm2のポスト露光を行う工程と、さらに、温度150°C〜250°Cかつ5分〜120分間のポストベーク処理を行う工程とを含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

厚さ0.3〜10μmの感光性樹脂層を脱酸素雰囲気下で、プロキシミティー20〜500μmでパターン露光する工程を含むことを特徴とするスペーサーの形成方法。

IPC (4件)：

G02F 1/1339 500 ,  G09F 9/00 338 ,  G09F 9/30 320 ,  G09F 9/35

FI (4件)：

G02F 1/1339 500 ,  G09F 9/00 338 ,  G09F 9/30 320 ,  G09F 9/35

Fターム (25件)：

2H089LA09 ,  2H089MA04X ,  2H089NA14 ,  2H089NA24 ,  2H089NA58 ,  2H089PA05 ,  2H089QA14 ,  2H089TA01 ,  2H089TA04 ,  2H089TA09 ,  2H089TA12 ,  5C094AA31 ,  5C094AA43 ,  5C094BA43 ,  5C094EC01 ,  5C094EC03 ,  5C094GB10 ,  5C094JA07 ,  5C094JA11 ,  5G435AA01 ,  5G435AA14 ,  5G435BB12 ,  5G435BB15 ,  5G435EE12 ,  5G435LL08