特許

J-GLOBAL ID：200903075385827992

荷電ビーム露光用マスク、荷電ビーム露光装置及び荷電ビーム露光方法

発明者： 中杉 哲郎
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257279
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085302
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】高精度な位置合わせを可能とする。【解決手段】転写マスク16に電子ビーム12を照射し、アライメント用開口部43bを通過した電子ビーム12を位置合わせマーク19b上に走査し、ウェハ19からの反射電子及び2次電子61を、マーク検出用開口部43cを通過させ、該転写マスク16の試料と対向しない面側に配置された検出器15で検出し、ウェハ19又は転写マスク16を移動させてこれら検出動作を行うことにより、ウェハ19と転写マスク16の相対的な位置ずれを検出し、相対的な位置ずれを補正してパターン部43aを用いてパターン露光を行う。

請求項（抜粋）：

基板と、この基板の表面から裏面まで貫通するように形成され、位置合わせ時のエネルギー線を通過させて試料面の位置合わせマークに入射させるアライメント用開口部と、前記基板の表面から裏面まで貫通するように形成され、前記試料に転写すべきパターンが形成されたパターン露光用開口部と、前記基板の表面から裏面まで貫通するように形成され、前記試料から反射したエネルギー線又は2次電子の少なくとも一方を通過させるマーク検出用開口部とを具備してなることを特徴とする荷電ビーム露光用マスク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  H01J 37/244 ,  H01J 37/305

FI (5件)：

H01L 21/30 541 K ,  G03F 1/16 B ,  H01J 37/244 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 S

Fターム (22件)：

2H095BA08 ,  2H095BB34 ,  2H095BD06 ,  2H095BE03 ,  2H095BE07 ,  2H095BE09 ,  5C033NN01 ,  5C033NN02 ,  5C034BB04 ,  5C034BB05 ,  5C034BB06 ,  5C034BB07 ,  5C034BB10 ,  5F056AA22 ,  5F056BA08 ,  5F056BB01 ,  5F056BD02 ,  5F056BD06 ,  5F056EA12 ,  5F056EA17 ,  5F056FA05 ,  5F056FA06