特許

J-GLOBAL ID：200903075386301102

マスク及び該マスクを用いた露光方法

発明者： 白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-210891
公開番号（公開出願番号）：特開平6-123962
出願日： 1991年08月22日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【目的】 通常の透光部と遮光部とのみからなり良好な像質が得られるとともに、製造、修正等が容易なマスクを得る。また遮光部と透光部とのみからなるマスクを使用しても、高解像度、大焦点深度の得られる露光方法を得る。【構成】 各パターン要素(P1〜P6)のエッジが孤立的か否か、或いは終端部か否かに基づいて、各線幅を微小量だけ設計値から増減させるようマスク11上のパターン12を修正する。そして一部が修正されたパターン12が形成されたマスク11を使用し、マスク11のフーリエ変換面15面を通る照明光束を照明系の光軸AXから偏心した位置に中心を有する2つの局所領域7a、7bに制限することよって、マスク11を所定量傾いた照明光で照明する。この露光方法により、高解像度、大焦点深度が得られるとともに、良好な像質が得られる。

請求項（抜粋）：

感光性基板に、微細パターンを露光転写するための原版であって、露光光に対して透過性または遮光性を有する下地に該下地とは逆の透過性または遮光性を有するパターン要素が2次元的に複数配列されたリソグラフィ用のマスクにおいて、前記複数のパターン要素の少なくとも1つのエッジが孤立的であるか否か、或いは終端部であるか否かに応じて、該エッジが微小量だけ拡張又は縮小されるよう、設計データの線幅が修正されていることを特徴とするマスク。

IPC (6件)：

G03F 1/08 ,  G02B 3/00 ,  G02B 27/42 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-036549
  
• 特開平1-188857
  
• 特開昭56-012615