特許

J-GLOBAL ID：200903075416086473

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

発明者： 仁王 宏之 ,  田村 一貴 ,  大林 元太郎
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-345931
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166479
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】(A)下記一般式(1)および一般式(2)で示される構造単位を含む重合体および(B)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物、およびこれを用いたパターン製造方法。【化1】【化2】(R1は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シリル基、シリルアルキル基、シロキシ基、シロキシアルキル基を表す。R2は下記化学式(3)または(4)で表される有機基である。Xは炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基を表す。)【化3】【化4】

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)および一般式(2)で示される構造単位を含む重合体および(B)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】【化2】(R1は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シリル基、シリルアルキル基、シロキシ基、シロキシアルキル基を表す。R2は下記化学式(3)または(4)で表される有機基である。Xは炭素数1〜4のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基を表す。)【化3】【化4】(Eは酸脱離基を示す。)

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 75/20 ,  G03F 7/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 75/20 ,  G03F 7/00 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (33件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB08 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF23 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB19 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA06 ,  2H096GA08 ,  4J030BA09 ,  4J030BA47 ,  4J030BB23 ,  4J030BB24 ,  4J030BB25 ,  4J030BC02 ,  4J030BC08 ,  4J030BC21 ,  4J030BD22 ,  4J030BF01 ,  4J030BG01