特許
J-GLOBAL ID:200903075418290167
レジスト樹脂用モノマー
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
吉武 賢次
, 中村 行孝
, 紺野 昭男
, 横田 修孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-163504
公開番号(公開出願番号):特開2004-331981
出願日: 2004年06月01日
公開日(公表日): 2004年11月25日
要約:
【課題】 短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂を製造するためのモノマーの提供。【解決手段】 アダマンタン環の少なくとも1つの環状炭素が-(C=O)-に変換された骨格を構造を含み、かつ重合反応時に結合部位として作用する基であるヒドロキシル基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を少なくとも1種類を2個以上有することを特徴とするモノマー化合物。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
アダマンタン環の少なくとも1つの環状炭素が-(C=O)-に変換された骨格を構造を含み、かつ重合反応時に結合部位として作用する基であるヒドロキシル基およびカルボキシル基からなる群から選ばれる基を少なくとも1種類を2個以上有することを特徴とするモノマー化合物。
IPC (5件):
C08F20/10
, C07C49/513
, C07C62/24
, C08G63/199
, H01L21/027
FI (5件):
C08F20/10
, C07C49/513
, C07C62/24
, C08G63/199
, H01L21/30 502R
Fターム (41件):
2H025AA04
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4H006AA03
, 4H006AB46
, 4H006BJ30
, 4H006BR70
, 4H006BS20
, 4H006BS90
, 4J029AA03
, 4J029AB01
, 4J029AB07
, 4J029AC02
, 4J029AC03
, 4J029AD01
, 4J029AE18
, 4J029BD02
, 4J029BD10
, 4J029CD03
, 4J029CD07
, 4J029EG06
, 4J029EG08
, 4J029JC021
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA11P
, 4J100BC09P
, 4J100BC52P
, 4J100BC53Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100JA38
引用特許:
引用文献: