特許
J-GLOBAL ID：200903075434957813
ガスクロマトグラフ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 良平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-125942
公開番号（公開出願番号）：特開2000-314731
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：
【要約】【課題】 試料気化室の加熱の均一性を高める。【解決手段】 試料気化室10の基体部11の内筒部2に円筒形状の絶縁性基体3を嵌挿し、その周囲の案内溝に沿ってヒータ線5を巻回する。その外側に外筒7を設け、外筒7と絶縁性基体3との間隙には絶縁性粉体6を充填し、外筒7と基体部11とは溶接によって固着してヒータ線5を密封する。更に、その外側を金属製の保温ブロック9と断熱ブロック24で覆って、外部と熱遮断する。試料気化室10はヒータ線5により周囲全体から加熱されるので、垂直方向及び水平方向ともに温度の均一性が高まる。
請求項（抜粋）：
試料気化室を含む試料導入ユニットをカラム入口に備えたガスクロマトグラフ装置において、該試料導入ユニットは、試料気化室を構成する略円筒形状の基体の周壁内部にヒータを周設し、その周囲を断熱ブロックで覆った構成を有することを特徴とするガスクロマトグラフ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01N 30/12 A
, G01N 30/12 D
, G01N 1/22 T
