特許

J-GLOBAL ID：200903075439531776

浸漬塗工装置及び電子写真用感光体の製造方法

発明者： 斎藤 紀保
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 小島 俊郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-143655
公開番号（公開出願番号）：特開2001-321708
出願日： 2000年05月16日
公開日（公表日）： 2001年11月20日
要約：

【要約】【課題】塗布むらをなくして均一な膜厚の塗膜を形成する。【解決手段】塗布槽2から一定距離をおいて配置された蓋16の被塗布材である導電性基体11を通す孔14の直径dを塗布槽2の直径Dに対してD≧dを満たすように定め、蓋16の孔14から流入する外気流を抑制し、塗布液の溶媒蒸気雰囲気内で導電性基体11の表面に塗布した塗布液を均一に乾燥させ、導電性基体11の表面に塗布むらのない均一な厚さの薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

塗布液を充填した塗布槽と、被塗布材を塗布槽に浸漬させ、塗布槽に浸漬させた被塗布材を引き上げる昇降装置及び塗布槽から一定距離をおいて設けた被塗布材を通す孔を有し、塗布槽の上部を覆う蓋を有する浸漬塗工装置であって、蓋の孔の直径dを塗布槽の直径Dに対してD≧dを満たすように定めたことを特徴とする浸漬塗工装置。

IPC (3件)：

B05C 3/10 ,  B05D 7/00 ,  G03G 5/05 102

FI (3件)：

B05C 3/10 ,  B05D 7/00 H ,  G03G 5/05 102

Fターム (12件)：

2H068EA16 ,  4D075AB12 ,  4D075AB56 ,  4D075CA47 ,  4D075DA15 ,  4D075DB01 ,  4D075DC21 ,  4D075EA45 ,  4F040AA07 ,  4F040AB06 ,  4F040BA47 ,  4F040CC02

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電子写真用感光体の感光層塗布装置と感光体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-110797   出願人：富士電機株式会社