特許

J-GLOBAL ID：200903075447560661

投影露光方法および投影露光装置

発明者： 舛行 崇
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-051886
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252192
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：

【要約】【課題】 投影露光方法および投影露光装置において、感光基板に高段差等の凹凸があってもショット内のデフォーカスを低減すること。【解決手段】 凹凸の形状に基づいて求めた走査速度で走査を行うので、高段差等の凹凸毎に追従可能な速度に変えたり、凹凸全体に追従可能な速度や凹部または凸部の一方に追従可能な速度等に適宜設定することにより、凹凸に対応して要求されるフォーカス精度で露光することが可能となる。

請求項（抜粋）：

凹凸を有する感光基板上にマスク上のパターンの一部を投影光学系を介して投影するとともに、マスクおよび感光基板を投影光学系に対して同期して走査しながらパターンを感光基板に逐次露光する投影露光方法であって、前記凹凸の形状に基づいて求めた走査速度で前記走査を行うことを特徴とする投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 B

Fターム (6件)：

5F046BA05 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14 ,  5F046DA30 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10