特許
J-GLOBAL ID：200903075476301322
スペクトル分布計測装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
村瀬 一美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-345547
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181080
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月18日
要約：
【要約】【目的】 パルスレーザー光のスペクトルを精密に測定できるようにする。【構成】 スペクトル分布計測装置1は、パルスレーザー光発生装置3から発射される被計測パルスレーザー光のスペクトル分布を観測する計測装置である。この計測装置1は、標準レーザー光発生装置11、干渉手段13、スペクトル分析手段15からなる。標準レーザー光発生装置11から発生された干渉用レーザー光は、干渉手段13の第1光学系131で光合成手段(半透明ミラー130)に導かれる。被計測パルスレーザー光も第2光学系132で半透明ミラー130に導かれる。同ミラー130では両レーザー光のビート成分が形成される。このビート成分はスペクトル分析手段15でフーリエ変換されてスペクトル分布が求められる。これにより被計測パルスレーザー光のスペクトル分布を求める。
請求項（抜粋）：
被計測パルスレーザー光のスペクトル分布を計測できるスペクトル分布計測装置において、干渉用レーザー光を発生させるレーザー光発生手段と、前記レーザー光発生手段からの干渉用レーザー光と被計測パルスレーザー光を干渉させてレーザー光ビート成分を得る干渉手段と、前記干渉手段からのレーザー光ビート成分を取込み、そのレーザー光ビート成分をフーリエ変換して被計測パルスレーザー光のスペクトルを測定するスペクトル分析手段とを備えたことこを特徴とするスペクトル分布計測装置。
引用特許：
前のページに戻る
