特許
J-GLOBAL ID：200903075502675023
レジストパターン形成方法とその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-195774
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064494
出願日： 1994年08月19日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 化学増幅型レジストを使用したフォトリソグラフィにおける現像工程で発生するレジストパターンの面内バラツキを改善するためのレジストパターン形成方法に関し、現像方法特有のウェハ面内不均一性を考慮した露光後のベーク方法を提供する。【構成】 基板1上に塗布した化学増幅型レジスト2の露光後ベークに用いるベークプレート4を凸型あるいは凹型の湾曲面または斜面にして、基板1とベークプレート4の間に連続的に異なるギヤップ長5を形成する。
請求項（抜粋）：
基板上に塗布した化学増幅型レジストの露光後ベークに用いるベークプレートを凸型あるいは凹型の湾曲面または斜面にして、基板とベークプレートの間に連続的に異なるギヤップ長を形成することを特徴とするレジストパターン形成方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/38 511
