特許

J-GLOBAL ID：200903075517696000

硬脆材料基板用研磨剤

発明者： 山田 勉 ,  久保 富美夫
出願人/特許権者： 株式会社岡本工作機械製作所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-385483
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184726
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：

【要約】【課題】 研磨速度が速いタンタル酸リチウム基板用研磨剤の提供。【解決手段】 研磨剤組成物中、(a)BET比表面積が40〜160m2/g、平均粒径が0.5μm以下のγ-アルミナ 1〜10重量%、(b)平均粒径が10〜100nmのコロイダルシリカまたはフュ-ムドシリカ 10〜30重量%、(c)分子量100〜400のポリエチレングリコ-ル 1〜25重量%、(d)分散助剤 0.5〜5重量%、および(e)水 30〜87重量%を含有する、pHが8.5〜12.5の硬脆材料基板用研磨剤。

請求項（抜粋）：

研磨剤組成物中、(a)BET比表面積が40〜160m2/g、平均粒径が0.5μm以下のγ-アルミナ 1〜10重量%、(b)平均粒径が10〜100nmのコロイダルシリカまたはフュ-ムドシリカ 10〜30重量%、(c)潤滑剤 1〜25重量%、(d)分散助剤 0.5〜5重量%、および(e)水 30〜87重量%を含有する、pHが8.5〜12.5の硬脆材料基板用研磨剤。

IPC (4件)：

H01L 21/304 622 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14

FI (4件)：

H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z

Fターム (5件)：

3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17