特許

J-GLOBAL ID：200903075526253049

変性光触媒及びその製造方法

発明者： 中林 亮
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
代理人 (1件)： 伊藤 穣 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-218927
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038215
出願日： 1999年08月02日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【課題】 光触媒の表面を穏和な条件で修飾する方法を提供することにより、溶媒分散性や樹脂相溶性の付与、架橋性能の付与等、様々な機能を発現することができる変性光触媒を得ることを目的とする。【解決手段】 ?@ ヒドロシリル基を有する化合物及びヒドロシリル基に対し脱水素縮合触媒として働く物質で変性されてなる変性光触媒。?A ヒドロシリル基に対し脱水素縮合触媒として働く物質が固定された光触媒を、ヒドロシリル基を有する化合物で変性させる変性光触媒の製法。?B 該変性光触媒を更にヒドロシリル基を有する化合物で変性させる製法。?C 該変性が光還元法によること。?D脱水素縮合触媒が白金族触媒。?E 光触媒が光触媒ゾルであること。

請求項（抜粋）：

ヒドロシリル基を有する化合物及びヒドロシリル基に対し脱水素縮合触媒として働く物質で変性されてなる変性光触媒。

IPC (4件)：

B01J 31/06 ,  B01J 35/02 ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/12

FI (4件)：

B01J 31/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/12

Fターム (33件)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA37 ,  4G069BA48A ,  4G069BC69A ,  4G069BC69B ,  4G069CB80 ,  4G069EA08 ,  4J035BA14 ,  4J035CA021 ,  4J035CA03M ,  4J035CA032 ,  4J035CA06M ,  4J035CA062 ,  4J035CA082 ,  4J035CA09M ,  4J035CA092 ,  4J035CA11M ,  4J035CA112 ,  4J035CA13M ,  4J035CA132 ,  4J035CA16M ,  4J035CA162 ,  4J035CA19M ,  4J035CA192 ,  4J035CA26M ,  4J035CA262 ,  4J035FB01 ,  4J035GA01 ,  4J035LA05 ,  4J035LB15 ,  4J035LB20