欠陥検査方法とその装置、及び欠陥の自動分類のための欠陥位置検出方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木市郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-359608
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162366
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】検査対象の微細で任意方向に規則的に繰り返すパターンを利用して、高精度の欠陥検出を可能とし、かつ回路規模の増大化を回避できるようにする。【解決手段】リニアセンサ5で読み取った半導体ウエハ1上のチップの外観画像から、チップ内の規則性パターンを有する検査領域では、遅延メモリ8,バッファメモリ9,比較器14,2値化回路16などでチップ内比較によって欠陥が検出され、また、かかるパターンを持たない検査領域では、チップ遅延メモリ7,比較器13,2値化回路15などでチップ間比較によって欠陥が検出される。データ生成器20に格納されているデータに基づいて半導体ウエハ1での各検査領域のアドレス遅延マップ19が形成され、これに基づいて、マルチプレクサ17が2値化回路15,16のいずれかの出力を選択し、また、上記パターンのピッチや繰り返し方向に応じて、バッファメモリ9による遅延量が制御される。

請求項（抜粋）：

検査対象物の外観画像を取得し、該検査対象物上の各位置を着目点として、該着目点の画像と該検査対象物の該着目点とは異なる位置の比較点の画像とを比較することにより、該着目点での欠陥の有無を検出する欠陥検出方法であって、該外観画像は複数の検査領域の画像に区分され、該検査領域の画像毎に、該着目点に対する該比較点の2次元的な位置関係を示す情報が設定され、該情報に基づいて、該着目点の画像とこれに対する該比較点の画像との比較を可能とすることを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (6件)：

G01N 21/956 , G01N 21/958 , G02F 1/13 101 , G06T 1/00 305 , G06T 7/00 300 , H01L 21/66

FI (6件)：

G01N 21/956 A , G01N 21/958 , G02F 1/13 101 , G06T 1/00 305 A , G06T 7/00 300 E , H01L 21/66 J

Fターム (37件)：

2G051AA51 , 2G051AB07 , 2G051EA12 , 2G051EC01 , 2G051ED21 , 2H088FA13 , 2H088MA20 , 4M106AA01 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB21 , 4M106DJ04 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18 , 4M106DJ19 , 4M106DJ21 , 4M106DJ26 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CG04 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC32 , 5L096AA03 , 5L096AA06 , 5L096BA03 , 5L096CA02 , 5L096GA08 , 5L096GA36 , 5L096HA07 , 5L096JA03 , 5L096LA10

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