感光物製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-172351
公開番号（公開出願番号）：特開平9-020749
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【課題】解像力の膜厚依存性、現像残渣の点で優れ、経時安定性が良好なフォトレジストの得られるポリヒドロキシ化合物とナフトキノンジアジドスルフォニルクロリドのエステル化物の反応時間を短縮できる方法を提供することである。【解決手段】特定の構造を有するポリヒドロキシ化合物とナフトキノンジアジドスルフォニルクロリドのエステル化反応に用いる溶媒がエステル基及びエーテル基を有する化合物であり、該反応により得られたキノンジアジドスルホン酸エステルが254nmの測定波長よる液体クロマトグラフィー測定でジエステル体の面積比が全エステル化物中50%以上を占める様な混合エステル体である。

請求項（抜粋）：

一般式(I)で表されるポリヒドロキシ化合物と、1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォニルクロリドの塩基触媒存在下でのエステル化反応において、該エステル化反応に用いる溶媒が分子内に官能基としてエステル基及びエーテル基を同時に有する化合物であり、且つ該エステル化反応により得られたキノンジアジドスルホン酸エステルが254nmを測定波長とする液体クロマトグラフィー測定で、ジエステル体の面積比が全エステル化物中50%以上を占める様な混合エステル体であることを特徴とする感光物製造方法。【化1】式中、R1〜R3 は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニル基、アシル基を表し、Aは-C(R4 R5 )-、-O-、-S-、-C(=O)-、-C(=S)-、-S(=O)-、-S(=O)2 -、-S(=O)2 -O-、-C(=O)-O-の2価の有機基を表し、R4 、R5 は各々独立に水素原子、アルキル基(R4 とR5 で環を形成していてもよい)を示し、l、m、nは、各々0〜3を示し、kは1〜3を示す。

IPC (4件)：

C07C309/76 , C07C303/28 , G03F 7/004 501 , G03F 7/022

FI (4件)：

C07C309/76 , C07C303/28 , G03F 7/004 501 , G03F 7/022

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-010646
特開平3-228057
感放射線性成分の製造方法およびポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-178184 出願人：住友化学工業株式会社

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