特許
J-GLOBAL ID：200903075539955727
GaP結晶の洗浄液
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-307827
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140376
出願日： 1992年10月23日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】 GaP結晶の表面から付着するGa粒子を除去する洗浄液を提供する。【構成】 フッ酸と硝酸をフッ酸1に対し硝酸0.9〜1.1で混合し、30°C以下の室温で使用する洗浄液。
請求項（抜粋）：
フッ酸と硝酸を、フッ酸1に対して、体積比率で硝酸0.9〜1.1の割合で混合し、30°C以下の室温で使用することを特徴とするGaP結晶洗浄液。
IPC (5件)：
H01L 21/304 341
, C23G 1/02
, C30B 29/44
, C30B 33/10
, H01L 33/00
