特許
J-GLOBAL ID：200903075557244242
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-333984
公開番号（公開出願番号）：特開平11-168078
出願日： 1997年12月04日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】【課題】 基板の下面に供給した複数種類の処理液を好適に分離回収する。【解決手段】 スピンベース1の対向面から離間した状態で基板Wが保持され、スピンベース1の対向面に設けられた処理液供給部4から基板Wの下面の回転中心付近に向けて複数種類の処理液が選択的に供給される。保持された基板Wの周囲には、薬液案内部60と廃液案内部61とが形成された案内部材6が昇降自在に配置されている。基板Wに薬液を供給するときは薬液案内部60を基板Wの側方に位置させ、薬液案内部60、処理カップ5の薬液回収槽54、薬液回収口50、薬液回収管52を経て処理後の薬液を回収する。基板Wに純水を供給するときは廃液案内部61を基板Wの側方に位置させ、廃液案内部61、廃液回収槽55、廃液回収口51、廃液配管56を経て処理後の廃液を回収する。
請求項（抜粋）：
基板を回転させながら、基板の下面に複数種類の処理液を個別に供給して各処理液による基板処理を行う基板処理装置において、基板の下面と対向する対向面を有するスピンベースと、前記スピンベースに設けられ、基板の下面が前記スピンベースの対向面から離間された状態で基板を保持する基板保持手段と、前記スピンベース及び基板を保持している前記基板保持手段を回転させる回転手段と、前記スピンベースの対向面に設けられ、前記基板保持手段に保持された基板の下面の回転中心付近に向けて、複数種類の処理液を選択的に供給する処理液供給部と、処理液の種類に対応して個別に設けられた複数個の回収路と、処理液の種類に対応して個別に設けられ、回転される基板から飛散される処理液を前記基板保持手段に保持された基板の側方で受け止めてその処理液に対応する回収路に導く複数個の案内部と、回転される基板から飛散される処理液を、その処理液の種類に対応した案内部で受け止めるように、前記基板保持手段に保持された基板と各案内部との位置関係を調節する位置調節手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 643
, H01L 21/304 648
, B08B 3/02
H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 648 F
, B08B 3/02 B
