特許
J-GLOBAL ID:200903075559791640
はんだ密着性、めっき性に優れ、かつ洗浄が容易な銅合金およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小谷 悦司 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-126416
公開番号(公開出願番号):特開平8-319527
出願日: 1995年05月25日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】【目的】 Cu-Ni-Si系合金の特長である高強度高導電性の特性を活かしながら、欠点である酸洗性を改善する。【構成】 Ni:0.4〜4.0重量%、Si:0.1〜1.0重量%、Zn:1.0を越えて〜2.0重量%、Cr:0.0001〜0.01重量%、Mg:0.0001〜0.001重量%、および必要に応じて、Mn:0.01〜0.1重量%、Al:0.0001〜0.01重量%を含有し、残部が実質的に銅および不可避的不純物からなる銅合金であって、析出物Ni2Siの粒径が10nm以下、不可避的不純物としてのSの含有量が10ppm以下であるはんだ密着性、めっき性に優れ、かつ洗浄が容易な銅合金およびその製造方法。
請求項(抜粋):
Ni:0.4〜4.0重量%、Si:0.1〜1.0重量%、Zn:1.0を越えて〜2.0重量%、Cr:0.0001〜0.01重量%、Mg:0.0001〜0.001重量%、および必要に応じて、Mn:0.01〜0.1重量%、Al:0.0001〜0.01重量%を含有し、残部が実質的に銅および不可避的不純物からなる銅合金であって、析出物Ni2Siの粒径が10nm以下、不可避的不純物としてのSの含有量が10ppm以下であることを特徴とするはんだ密着性、めっき性に優れ、かつ洗浄が容易な銅合金。
IPC (2件):
FI (2件):
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