特許
J-GLOBAL ID：200903075561013166
無機顔料の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-187599
公開番号（公開出願番号）：特開2004-027085
出願日： 2002年06月27日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】無機顔料膜の多層化や構造安定化を容易に達成することのできる無機顔料の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基材1の上に無機剥離層としてのZnO層2を形成する剥離層形成工程と、ZnO層2の上に多層構造をなす無機顔料膜5を形成する顔料膜形成工程と、所定の温度で無機顔料膜5を焼成することにより無機顔料膜5の構造を安定化させる焼成工程と、無機顔料膜5は溶解しないが無機剥離層としてのZnO層2が溶解するような所定の溶剤(硝酸6)を用いてZnO層2のみを溶解させることにより、無機顔料膜5をガラス基材1から剥離させる剥離工程とを順に実施する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材の上に無機剥離層を形成する剥離層形成工程と、
上記無機剥離層の上に無機顔料膜を形成する顔料膜形成工程と、
上記無機顔料膜は溶解しないが上記無機剥離層が溶解するような所定の溶剤を用いて該無機剥離層のみを溶解させることにより、該無機顔料膜を上記基材から剥離させる剥離工程とを有することを特徴とする無機顔料の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
4J037CA09
, 4J037EE03
, 4J037EE04
