特許
J-GLOBAL ID：200903075583333750
基板表面粒子測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-057723
公開番号（公開出願番号）：特開平6-249773
出願日： 1993年02月23日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：
【要約】【目的】 装置自体からの発塵を防止することのできる基板表面粒子測定装置を提供する。【構成】 被測定基板1を移動して、レーザ光で該被測定基板表面を走査し、該被測定基板表面に存在する粒子の該レーザ光の散乱光から、粒子径及び粒子数を計測する基板表面粒子測定装置において、前記被測定基板1はステージ2に搭載され、該ステージ2は磁気浮上手段22,23,24,25,26,27,28,29,30,31により固定側より非接触で浮上支持され、且つ移動される。
請求項（抜粋）：
被測定基板を移動して、レーザ光で該被測定基板表面を走査し、該被測定基板表面に存在する粒子の該レーザ光の散乱光から、粒子径及び粒子数を計測する基板表面粒子測定装置において、前記被測定基板はステージに搭載され、該ステージは磁気浮上手段により固定側より非接触で浮上支持され、且つ移動されることを特徴とする基板表面粒子測定装置。
IPC (3件)：
G01N 15/02
, G01N 15/10
, G01N 21/88
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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