特許
J-GLOBAL ID：200903075589854735
粒子検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-341084
公開番号（公開出願番号）：特開平6-094597
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：
【要約】【目的】 真空処理室内の粒子を排気ラインに挿入した粒子検出手段で効率良く、正確に、再現性良く測定する真空装置の粒子検出方法を提供することにある。【構成】 被処理物処理後、或いは、自己洗浄後、真空処理室1内に導入ガスを導入して、真空処理室1のガス圧を被処理物処理ガス圧(P2 )以上に高めた後、そのガス圧を保つようにするか、もしくは、真空ポンプPにて基礎圧力(P1)に低める。或いは、短時間の間に、真空処理室1のガス圧を(P1 )から高圧力(P4 )そして、(P4 )から(P1 )へと繰り返し変化させる。この時、排気ライン10中に発生する気流によって、排気ライン10に配置された粒子検出手段9で、真空処理室1内に存在する粒子を検出する。
請求項（抜粋）：
被処理物を処理するための真空処理室と、該真空処理室の処理ガス、或いは、導入ガスを排気する真空ポンプと、前記真空処理室と前記真空ポンプの間に設けられた排気ラインと、該排気ラインに配置された粒子検出手段とよりなる真空処理装置において、前記真空処理室のガス圧を、被処理物を処理する時のガス圧(P2 )以上に高めた後、そのガス圧を保つようにするかもしくは前記真空ポンプにて前記真空処理室の構造及び前記真空ポンプの能力等で決まる基礎圧力(P1 )に低める時に生じる前記排気ライン中の気流中の粒子を検出することによって、前記真空処理室内の汚染状態を評価することを特徴とする粒子検出方法。
IPC (3件)：
G01N 15/14
, G01N 15/00
, H01L 21/302
