特許

J-GLOBAL ID：200903075608048125

荷電粒子線描画装置及びそれに用いる静電チャック

発明者： 鈴木 正平
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-031411
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223743
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 真空排気時の基板(ウエーハ)の冷えに起因するスループット低下の問題を解消すべく改良を加えた荷電粒子線描画装置を提供する。【解決手段】 荷電粒子線描画装置1のロードロック室31内には、静電チャック29が設置してある。この静電チャック29の台座45の下には、その周縁の沿ってループ状導線47が付設されている。このループ状導線47には、高周波電源49が接続されており、高周波電流が流れる。これによって、静電チャック29を上下に貫通する磁界が生じ、この磁界の影響で上述の渦電流がウエーハ27に生じ、ウエーハ27が加熱される。

請求項（抜粋）：

荷電粒子線を用いて基板上にパターンを描画する荷電粒子線描画装置であって;基板に渦電流を発生させる手段を備えることを特徴とする荷電粒子線描画装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 506 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 R ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 506 ,  H01L 21/30 541 L